•CVD 장비는 진공 챔버·RF 발생기·가스 공급 계통·온도 제어 시스템이 복잡하게 통합된 설비로, 각 구성 요소의 주기적 예방 정비(PM)가 생산 수율 유지에 직결된다. 장비 기술자들은 방진복을 착용한 상태에서 클린룸 내 고압 가스·플라즈마·유해 화학물질을 다루며, 안전보건기준을 엄격히 준수해야 한다. 반도체 장비 예방 정비(PM)는 챔버 파트 교체 주기, 플라즈마 세정 빈도, 가스 배관 퍼지 등 수십 가지 항목을 정해진 주기에 따라 실행하는 체계화된 작업이다. 원익IPS는 국산 메탈 CVD 'NOA' 장비 개발 후 TEL 장비를 대체하며 삼성전자·SK하이닉스에 서비스 기술 인력을 지속 투입하고 있다. 주성엔지니어링은 반도체·디스플레이·태양광 CVD 장비를 전 세계 고객사에 납품하며 현지 기술지원 인력 체계를 확대하고 있다. 반도체 장비 기술자는 장비 1대당 MTBF(평균 고장 간격) 및 MTTR(평균 복구 시간) 지표 관리 책임을 지며, 이 수치가 팹 생산성 KPI에 직접 반영된다. ALD는 웨이퍼 표면에서만 반응해 박막 두께를 정교하게 제어하는 점에서 CVD와 구분되며, 주성엔지니어링은 박막 재료 분사에 시간차를 두는 '시공간분할' 기술을 세계 최초로 개발했다.